bn:01438244n
Noun Concept
Categories: フォトリソグラフィ, ナノテクノロジー, 印刷, 半導体製造, 光学
JA
極端紫外線リソグラフィ  EUV  EUVリソグラフィ
JA
極端紫外線リソグラフィ は、極端紫外線、波長13.5 nmにて露光する次世代露光技術である。. Wikipedia
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極端紫外線リソグラフィ は、極端紫外線、波長13.5 nmにて露光する次世代露光技術である。. Wikipedia
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