bn:03441803n
Noun Concept
Categories: 表面処理, 半導体製造, 薄膜
JA
物理気相成長  PVD  PVD法  物理気相成長法  物理蒸着法
JA
物理気相成長(ぶつりきそうせいちょう)または物理蒸着(英語:physical vapor deposition、略称:PVD)は、物質の表面に薄膜を形成する蒸着法のひとつで、気相中で物質の表面に物理的手法により目的とする物質の薄膜を堆積する方法である。 Wikipedia
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物理気相成長(ぶつりきそうせいちょう)または物理蒸着(英語:physical vapor deposition、略称:PVD)は、物質の表面に薄膜を形成する蒸着法のひとつで、気相中で物質の表面に物理的手法により目的とする物質の薄膜を堆積する方法である。 Wikipedia
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