bn:03445008n
Noun Concept
Categories: 半導体製造, 表面処理, 薄膜
JA
化学気相成長  化学蒸着  CVD法  CVD装置  化学気相成長法
JA
化学気相堆積(CVD: chemical vapor deposition)法は、さまざまな物質の薄膜を形成する堆積法のひとつで、石英などで出来た反応管内で加熱した基板物質上に、目的とする薄膜の成分を含む原料ガスを供給し、基板表面あるいは気相での化学反応により膜を堆積する方法である。 Wikipedia
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化学気相堆積(CVD: chemical vapor deposition)法は、さまざまな物質の薄膜を形成する堆積法のひとつで、石英などで出来た反応管内で加熱した基板物質上に、目的とする薄膜の成分を含む原料ガスを供給し、基板表面あるいは気相での化学反応により膜を堆積する方法である。 Wikipedia
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