bn:14659361n
Noun Concept
Categories: フォトリソグラフィ, 半導体製造
JA
電子線描画装置  電子ビームリソグラフィ  電子ビーム露光装置  電子線リソグラフィ  電子線リソグラフィー
JA
電子線描画装置(でんしせんびょうがそうち、電子ビーム描画装置、電子ビーム露光装置、EB 露光装置、Electron Beam Lithography Exposure)は、電子線加工装置と走査型電子顕微鏡を応用したもので、主に半導体用レチクル作成に用いられる。 Wikipedia
Definitions
Relations
Sources
JA
電子線描画装置(でんしせんびょうがそうち、電子ビーム描画装置、電子ビーム露光装置、EB 露光装置、Electron Beam Lithography Exposure)は、電子線加工装置と走査型電子顕微鏡を応用したもので、主に半導体用レチクル作成に用いられる。 Wikipedia